金融界2024年12月17日音讯，国家知识产权局信息数据显现，浙江奥首资料科技有限公司请求一项名为“一种铜基复合金属显现蚀刻液及其制备办法与使用”的专利，公开号CN 119121229 A，请求日期为2024年9月。
专利摘要显现，本发明触及一种铜基复合金属显现蚀刻液及其制备办法与使用。所述的蚀刻液，依照分量份核算包含如下组分：过氧化氢5‑20份；酸性物质5‑15份；螯合剂0.01‑0.05份；醇胺2‑10份；缓蚀剂0.1‑1份；安稳剂0.1‑2份；去离子水50‑80份。本发明蚀刻液中的螯合剂可以超强络合铜离子，不只削弱对过氧化氢的分化，还可以给我们供给安稳的酸性环境。本发明的蚀刻液可以确保在铜离子含量到达12000ppm，且蚀刻反响中，玻璃基板无金属残留，无二段角和Mo拖尾现象产生。本发明的蚀刻液可使用于Cu/MoNb合金基板，具有十分杰出的蚀刻作用。